コスモシールの原料シリカゲルは厳選された高純度全多孔性球状シリカゲル（純度99.99％以上保証）を採用しております。
低純度のシリカゲルには金属が含まれています。金属は分離（特に金属配位性化合物に対して）に悪影響を与える場合があります。

金属配位性化合物

隣接する位置に-OH 基、-COOH 基、C=O、-NH₂を2 つ以上持つ化学構造を有する化合物は、金属と配位して錯体を形成しピークのテーリングの原因になります。

シリカゲルの金属含有率

充填剤	金属含有率（ppm）
	Al	Ca	Fe	Mg	Na	Ti	Total
高純度シリカゲル	4	10	11	3	12	<1	41
一般シリカゲル	32	450	26	88	56	134	786

逆相HPLC で最も汎用されているのはC₁₈（あるいはODS）系カラムです。一般的にC₁₈ といえばモノメリック型C₁₈ を指します。
これは固定相であるオクタデシル（C₁₈）基とシリカゲルの結合数が１個であることを示しています。
モノメリック型カラムは合成再現性に優れ、ロットバラツキが少なく、また移動相の平衡時間が短いのが特長です。
一方、ポリメリック型C₁₈ は、固定相であるオクタデシル（C₁₈）基がシリカゲルと2?3ヶ所で結合しています。
このため、固定相が切れにくく、モノメリック型カラムよりも高耐酸性を有しています。

図１　結合形式の模式図（エンドキャップ処理前）

C₁₈ などの固定相はシリカゲル上のシラノール基に結合させますが、C₁₈ を結合させたシリカゲル上には未反応のシラノール基が残ります（残存シラノール）。残存シラノールは塩基性化合物のテーリングの原因となります。
コスモシール逆相クロマトグラフィー用充填剤はエンドキャップ処理により残存シラノールをほぼ完全に封鎖しております。

R-NH+（塩基性化合物）
Si-O-（解離したシラノール基）
塩基性化合物（＋に荷電する化合物）はシラノール基 とイオン結合しピークのテーリングの原因になります。

分析条件
カラム サイズ	4.6mmI.D. × 150mm	サンプル	Uracil N-Methylbenzylamine N,N-Dimethylbenzylamine Benzyl Alcohol
移動相	メタノール：20mmol / l Phosphate Buffer （pH7）= 20：80
温　度	30℃
検　出	UV 254nm　0.16AUFS

厳選されたシリカゲルおよび一定した合成条件の採用で、化学結合型カラムの場合、合成ロット間の保持比（k'）のバラツキは± 10%以内、分離係数（α）のバラツキは± 5%以内におさめています。
下図は、合成した充填剤（コスモシール5C₁₈-MS-II）のロット検査結果をグラフ化したものです。コスモシールカラムではロット間のバラツキを極力抑えています。